4b O 117/13 – Mikromechanische Bauelemente | Düsseldorfer Entscheidungen

Düsseldorfer Entscheidung Nr.: 2424

Landgericht Düsseldorf
Urteil vom 28. Mai 2015, Az. 4b O 117/13

I.
Die Beklagte wird verurteilt,

1.
es bei Meidung eines für jeden Fall der Zuwiderhandlung vom Gericht festzusetzenden Ordnungsgeldes bis zu EUR 250.000,00 – ersatzweise Ordnungshaft – oder einer Ordnungshaft bis zu sechs Monaten, im Fall wiederholter Zuwiderhandlung bis zu insgesamt zwei Jahren, wobei die Ordnungshaft hinsichtlich der Beklagten an ihrem Geschäftsführer zu vollziehen ist, zu unterlassen,
Erzeugnisse, hergestellt mittels eines Verfahrens zur Herstellung mikromechanischer Bauelemente mit freistehenden Mikrostrukturen, die unter einer vorgebbaren mechanischen Spannung stehen, bei dem eine Opferschicht auf ein Substrat aufgebracht, auf der Opferschicht eine Polysiliziumschicht in einem Reaktor mittels Gasphasenabscheidung (CVD) abgeschieden und schließlich die Opferschicht zumindest teilweise entfernt wird,
in der Bundesrepublik Deutschland anzubieten, in Verkehr zu bringen oder zu gebrauchen oder zu den genannten Zwecken einzuführen oder zu besitzen,
wenn die Polysiliziumschicht bei einem Prozessdruck von mehreren 100 Pa abgeschieden wird, wobei die Art der Schichtspannung der Polysiliziumschicht, d.h. Zug- oder Druckspannung, über die Höhe des Prozessdruckes und der Betrag der Schichtspannung über die Höhe der Prozesstemperatur im Bereich zwischen 600 und 1200°C eingestellt werden,
wobei
zur Erzeugung einer hohen Schichtspannung eine niedrige Abscheidetemperatur, zur Erzeugung einer geringen Schichtspannung eine hohe Abscheidetemperatur gewählt wird;
und wobei
als Reaktor ein Epitaxie-Reaktor eingesetzt wird;

2.
dem Kläger darüber Auskunft zu erteilen, in welchem Umfang sie die zu Ziffer I.1 bezeichneten Handlungen seit dem 13.11.2003 begangen hat, und zwar unter Angabe
a)
der Namen und Anschriften der Hersteller, Lieferanten und anderer Vorbesitzer
b)
der Namen und Anschriften der gewerblichen Abnehmer sowie der Verkaufsstellen, für die die Erzeugnisse bestimmt waren,
c)
der Menge der ausgelieferten, erhaltenen oder bestellten Erzeugnisse sowie der Preise, die für die betreffenden Erzeugnisse bezahlt wurden;

wobei

– die Verkaufsstellen, Einkaufspreise und Verkaufspreise nur für die Zeit seit dem 30. April 2006 anzugeben sind;
– zum Nachweis der Angaben die entsprechenden Kaufbelege (nämlich Rechnungen, hilfsweise Lieferscheine) in Kopie vorzulegen sind, wobei geheimhaltungsbedürftige Details außerhalb der auskunftspflichtigen Daten geschwärzt werden dürfen;

3.
dem Kläger darüber Rechnung zu legen, in welchem Umfang sie die zu Ziffer I.1. bezeichneten Handlungen seit dem 13.11.2003 begangen hat, und zwar unter Angabe

a)
der einzelnen Lieferungen, aufgeschlüsselt nach Liefermengen, -zeiten,- preisen und Typenbezeichnungen sowie die Namen und Anschriften der gewerblichen Abnehmer,
b)
der einzelnen Angebote, aufgeschlüsselt nach Angebotsmengen, -zeiten, – preisen und Typenbezeichnungen sowie der Namen und Anschriften der gewerblichen Angebotsempfänger,
c)
der betriebenen Werbung, aufgeschlüsselt nach Werbeträgern, deren Auflagenhöhe, Verbreitungszeitraum und Verbreitungsgebiet,
d)
der nach den erzielten Kostenfaktoren aufgeschlüsselten Gestehungskosten und des erzielten Gewinns,
wobei
der Beklagten vorbehalten bleibt, die Namen und Anschriften der nicht-gewerblichen Abnehmer und der Angebotsempfänger statt dem Kläger einem von dem Kläger zu bezeichnenden, ihm gegenüber zur Verschwiegenheit verpflichteten, in der Bundesrepublik Deutschland ansässigen, vereidigten Wirtschaftsprüfer mitzuteilen, sofern die Beklagte dessen Kosten trägt und ihn ermächtigt und verpflichtet, dem Kläger auf konkrete Anfrage mitzuteilen, ob ein bestimmter Abnehmer oder Angebotsempfänger in der Aufstellung enthalten ist;

4.
die unter Ziffer I.1 bezeichneten, seit dem 30.04.2006 in Verkehr gebrachten Erzeugnisse gegenüber den gewerblichen Abnehmern unter Hinweis auf den gerichtlich festgestellten patentverletzenden Zustand der Sache und mit der verbindlichen Zusage zurückzurufen, etwaige Entgelte zu erstatten sowie notwendige Verpackungs- und Transportkosten sowie mit der Rückgabe verbundene Zoll-und Lagerkosten zu übernehmen und die Erzeugnisse wieder an sich zu nehmen.

II.
Es wird festgestellt,
dass die Beklagte verpflichtet ist, dem Kläger allen Schaden zu ersetzen, der diesem durch die zu Ziffer I. 1 bezeichneten, seit dem 13.11.2003 begangenen Handlungen entstanden ist und noch entstehen wird, wobei sich die Schadensersatzpflicht für die vor dem 31.12.2009 begangenen Handlungen auf die Herausgabe dessen beschränkt, was die Beklagte durch die Nutzung des EP 0 793 XXX B1 auf Kosten des Klägers erlangt hat.

III.
Die Kosten des Rechtsstreits werden der Beklagten zu 70% und dem Kläger zu 30% auferlegt.

IV.
Das Urteil ist vorläufig vollstreckbar, für den Kläger gegen Sicherheitsleistung in Höhe von € 300.000,00, für die Beklagte gegen Sicherheitsleistung in Höhe von 110% des jeweils zu vollstreckenden Betrages.

TATBESTAND

Der Kläger nimmt die Beklagte wegen Verletzung des deutschen Teils des europäischen Patents EP 0 793 XXX B1 (Anlagen K1, im Folgenden: Klagepatent) auf Unterlassung, Auskunft und Rechnungslegung, Rückruf und Feststellung der Schadensersatzpflicht in Anspruch.

Der Kläger ist Inhaber des Klagepatents, das am 21.11.1995 unter Inanspruchnahme zweier Prioritäten vom 22.11.1994 und 17.12.1994 angemeldet wurde. Die Veröffentlichung und Bekanntmachung des Hinweises auf die Patenterteilung erfolgte am 22.09.1999. Am 09.09.2014 legte die Beklagte Nichtigkeitsklage gegen das Klagepatent ein, über die noch nicht entschieden wurde. Das Klagepatent steht in Kraft.

Es betrifft ein Verfahren zur Herstellung mikromechanischer Bauelemente mit freistehenden Mikrostrukturen oder Membranen.

Anspruch 1 des Klagepatents lautet:

„Verfahren zur Herstellung mikromechanischer Bauelemente mit freistehenden Mikrostrukturen, die unter einer vorgebbaren mechanischen Spannung stehen, bei dem eine Opferschicht auf ein Substrat aufgebracht, auf der Opferschicht eine Polysiliziumschicht in einem Reaktor mittels Gasphasenabscheidung (CVD) abgeschieden und schließlich die Opferschicht zumindest teilweise entfernt wird,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Polysiliziumschicht bei einem Prozessdruck von mehreren 100 Pa abgeschieden wird, wobei die Art der Schichtspannung der Polysiliziumschicht, d.h. Zug- oder Druckspannung, über die Höhe des Prozessdruckes und der Betrag der Schichtspannung über die Höhe der Prozesstemperatur im Bereich zwischen 600 und 1200°C eingestellt werden.“

Anspruch 3 des Klagepatents lautet:

„Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
dass zur Erzeugung einer hohen Schichtspannung eine niedrige Abscheidetemperatur, zur Erzeugung einer geringen Schichtspannung eine hohe Abscheidetemperatur gewählt wird“

Anspruch 4 des Klagepatents lautet:

„Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
dass als Reaktor ein Epitaxie-Reaktor oder ein Polysilizium-Einzelscheibensystem eingesetzt wird.“

Die Unternehmensgruppe der Beklagten A, in der die Beklagte für das operative Geschäft und den Vertrieb zuständig ist, gehört zu den führenden Herstellern von sog. Mikrosystemen, miniaturisierten Geräten, Baugruppen oder Bauteilen, deren Komponenten kleinste Abmessungen haben und als System zusammenwirken (Micro-Electro-Mechanical System; MEMS). MEMS enthalten Sensoren, Aktoren und eine Steuerungselektronik auf einem Substrat bzw. Chip. Zu den Sensoren gehören insbesondere Beschleunigungssensoren (Serometer) und sog. Tskope, die Aufgaben wie z.B. Lageerkennung und Bildstabilisierung wahrnehmen. MEMS werden in Fahrzeugen und tragbaren Elektronik-Geräten wie Smartphones, Tablets und Notebooks verbaut. Zu der Produktpalette der A gehören unter anderem die Beschleunigungssensoren und Tskope mit folgenden Produktbezeichnungen (nachfolgend: angegriffene Ausführungsformen):

Die angegriffenen Ausführungsformen werden mit Hilfe des Thelma-Verfahrens (vgl. Anlagen K 10, K 11) hergestellt. Die Abkürzung Thelma steht für “Thick Epi-Poly Layer for Micro-Tscopes and Serometers”. Das Thelma-Verfahren besteht aus mehreren unterschiedlichen Verfahrensschritten.

Seit dem 01.04.2002 waren das B-Institut für Siliziumtechnologie, eines der an den Kläger angeschlossenen Forschungsinstitute, und die Beklagte Teilnehmer eines gemeinsamen Forschungsprojektes namens C mit dem Ziel, verbesserte Vakuumvergusstechnik für MEMS zu entwickeln. Das B Institut koordinierte das Projekt. Nach dem 6-schrittigen Arbeitsplan wurden im ersten Schritt Techniken vorgestellt, auf denen das Forschungsvorhaben aufbauen sollte. Die Beklagte stellte den Projektteilnehmern mit Email vom 02.01.2003 in einem Ergebnisbericht (Anlagenkonvolut FBD B 5) das Thelma-Verfahren vor. Diese Email war auch an die Herren D und E, beide Physiker und Mitarbeiter des B Instituts, adressiert. Mit identischem Wortlaut wurde das Thelma-Verfahren ebenfalls im Abschlussbericht des Projektes C auf S. 32 ff. dargestellt (vgl. Anlagenkonvolut FBD B 3a).
Im Jahr 2010 startete eine Konzerngesellschaft der Beklagten, die F S.r.l., bei einem klägerischen Institut eine Anfrage gerichtet auf die Herstellung von MEMS nach dem Thelma-Verfahren (Anlage FBD B 6). Diese beschied das Institut im Ergebnis abschlägig.

Die Universität G erwarb am 31.10.2014 im Auftrag des Klägers den Bewegungssensor H über den Vertriebspartner der Beklagten, J, der am 05.11.2014 ausgeliefert wurde. In einem weiteren Testkauf wurden die Sensoren H und K bei dem in I ansässigen Unternehmen L GmbH erworben. Am 07.11.2014 bestellte der Kläger im e-Store der Beklagten auf der Homepagewww.com wiederum über die Universität G das Board M, das mit dem Sensor H ausgestattet ist. Die Universität G erhielt die Bestellung Ende November.

Der Kläger behauptet, die Beklagte vertreibe Endprodukte auch durch Zwischenhändler in Deutschland, in denen die angegriffenen Ausführungsformen als einzelne Komponenten verbaut seien.

Der Kläger ist der Ansicht, die angegriffenen Ausführungsformen stellten unmittelbare Verfahrenserzeugnisse dar, die mittels des klagepatentgemäßen Verfahrens hergestellt würden.

Kern der Erfindung des Klagepatents sei es, unter mehreren aus dem Stand der Technik bekannten Einflussgrößen zur Einstellung der Schichtspannung an die Parameter Druck und Temperatur anzuknüpfen und damit standardisierte Prozessschritte zu ermöglichen.
Die Schichtspannung in der Polysiliziumschicht sei zu unterscheiden von dem Spannungsgradienten und der Spannung in den freistehenden Mikrostrukturen. Das Klagepatent beziehe sich auf die Schichtspannung im Sinne einer Ausgangsspannung, die sich jedoch durch die Entfernung der Opferschicht und gegebenenfalls weitere Behandlungsschritte ändere. Es gehe dem Klagepatent nicht darum, eine bestimmte Spannung zeitlich einzustellen, sondern es genüge bereits durch Variation der Abscheideparameter Druck und Temperatur den Betrag sowie die Art der Schichtspannung von Druck- bis Zugspannung reproduzierbar einzustellen. Insbesondere verlange der Klagepatentanspruch nicht, dass Atmosphärendruck stets eine Druckspannung erzeugen müsse. Ob eine permanente Überwachung oder Anpassung stattfinde, sei unerheblich. Der Fachmann kalkuliere gegebenenfalls bestehende Abhängigkeiten, die aus anderen Parametern resultieren, mit ein. Eine klagepatentgemäß erzeugte Schichtspannung mit einem bestimmten Vorzeichen und minimalen Spannungsbeträgen sei ein günstiger Ausgangspunkt für die Erzeugung akzeptabler Spannungsverhältnisse in den freistehenden Mikrostrukturen.
Dem Begriff „schließlich“ im Zusammenhang mit der teilweisen Entfernung der Opferschicht käme nicht die Bedeutung zu, dass die teilweise Entfernung der Opferschicht „ausschließlich“ nach Auftragung der Funktionsschicht stattfinden müsse. Außerdem sei dem Fachmann bekannt, dass die Opferschicht bereits vor dem Aufbringen der Funktionsschicht teilweise weggeätzt werde, damit die freistehenden Mikrostrukturen überhaupt erst entstünden.

Bei der Herstellung der angegriffenen Ausführungsformen werde die Höhe des Prozessdruckes bereits dadurch eingestellt, dass der Abscheidevorgang bei Atmosphärendruck stattfinde.
Die Messungen der Beklagten zeigten gerade, dass die Beträge der Schichtspannung in dem Rahmen lägen, der aus den im Klagepatent angegebenen Beispielswerten zu erwarten sei. Sie belegten ferner, dass das Vorzeichen der Schichtspannung auch nach dem Tempern gewahrt bleibe und der Spannungsbetrag zwar erhöht, aber wegen des extrem geringen Ausgangswerts noch immer in einem mittleren einstelligen und damit aktzeptablen MPa-Bereich bleibe.
Nach der gängigen Praxis sei davon auszugehen, dass die Beklagten zwei Abscheidvorgänge mit zwei aufgebrachten EPL-Schichten verwendeten wobei die Lehre des Klagepatents nur die erste EPL-Schicht betreffe. Soweit die mikromechanischen Bauelemente der Beklagte eine bis 20 µm dicke EPL-Schicht aufweise, stehe diese unter einer Druckspannung. Bei einer mehr als 20 µm dicken EPL-Schicht werde bei Atmosphärendruck die Druckspannung jedenfalls bei der ersten EPL-Schicht erreicht.

Das Tempern fokussiere sich auf die Eliminierung des Spannungsgradienten, der mit der Erfindung zunächst einmal nichts zu tun habe, so dass es sich bei den angegriffenen Ausführungsformen auch um unmittelbare Verfahrenserzeugnisse handele. Nach dem Tempern betrage die Schichtspannung der angegriffenen Ausführungsform 98% unter der mit dem aus dem Stand der Technik bekannten Verfahren erzielbaren Schichtspannung. Im Vergleich zur klagepatentgemäßen Schichtspannung, die 99% unter der Schichtspannung nach dem vorbekannten Verfahren liege, stelle dies eine unbeachtliche Verschlechterung dar.

Der Kläger hat ursprünglich sowohl die Vernichtung der angegriffenen Erzeugnisse als auch die Feststellung des Entschädigungsanspruchs im Zeitraum vom 10.10. 1997 bis zum 22.10.1999 beantragt und die Ansprüche auf Auskunft – auch über die Menge der hergestellten Erzeugnisse – und Rechnungslegung seit dem 22.10.2009 und 10.10.1997 geltend gemacht.

Er beantragt nunmehr,

I.
die Beklagte zu verurteilen,
1.
es bei Meidung eines für jeden Fall der Zuwiderhandlung vom Gericht festzusetzenden Ordnungsgeldes bis zu EUR 250.000,00 – ersatzweise Ordnungshaft – oder einer Ordnungshaft bis zu sechs Monaten, im Fall wiederholter Zuwiderhandlung bis zu insgesamt zwei Jahren, wobei die Ordnungshaft hinsichtlich der Beklagten an ihrem Geschäftsführer zu vollziehen ist, zu unterlassen,
Erzeugnisse, hergestellt mittels eines Verfahrens zur Herstellung mikromechanischer Bauelemente mit freistehenden Mikrostrukturen, die unter einer vorgebbaren mechanischen Spannung stehen, bei dem eine Opferschicht auf ein Substrat aufgebracht, auf der Opferschicht eine Polysiliziumschicht in einem Reaktor mittels Gasphasenabscheidung (CVD) abgeschieden und schließlich die Opferschicht zumindest teilweise entfernt wird,
in der Bundesrepublik Deutschland anzubieten, in Verkehr zu bringen oder zu gebrauchen oder zu den genannten Zwecken einzuführen oder zu besitzen,
wenn die Polysiliziumschicht bei einem Prozessdruck von mehreren 100 Pa abgeschieden wird, wobei die Art der Schichtspannung der Polysiliziumschicht, d.h. Zug- oder Druckspannung, über die Höhe des Prozessdruckes und der Betrag der Schichtspannung über die Höhe der Prozesstemperatur im Bereich zwischen 600 und 1200°C eingestellt werden,
wobei
zur Erzeugung einer hohen Schichtspannung eine niedrige Abscheidetemperatur, zur Erzeugung einer geringen Schichtspannung eine hohe Abscheidetemperatur gewählt wird;
und wobei
als Reaktor ein Epitaxie-Reaktor eingesetzt wird
(Kombination der Patentansprüche 1, 3 und 4)

2.
ihm darüber Auskunft zu erteilen, in welchem Umfang sie die zu Ziffer I.1 bezeichneten Handlungen seit 13.11.2003 begangen hat, und zwar unter Angabe
a)
der Namen und Anschriften der Hersteller, Lieferanten und anderer Vorbesitzer
b)
der Namen und Anschriften der gewerblichen Abnehmer sowie der Verkaufsstellen, für die die Erzeugnisse bestimmt waren,
c)
der Menge der ausgelieferten, erhaltenen oder bestellten Erzeugnisse sowie der Preise, die für die betreffenden Erzeugnisse bezahlt wurden;

wobei

3.
ihm darüber Rechnung zu legen, in welchem Umfang sie die zu Ziffer I.1. bezeichneten Handlungen seit dem 13.11.2003 begangen hat, und zwar unter Angabe

4.
die unter Ziffer I.1 bezeichneten, seit dem 30. April 2006 in Verkehr gebrachten Erzeugnisse gegenüber den gewerblichen Abnehmern unter Hinweis auf den gerichtlich festgestellten patentverletzenden Zustand der Sache und mit der verbindlichen Zusage zurückzurufen, etwaige Entgelte zu erstatten sowie notwendige Verpackungs- und Transportkosten sowie mit der Rückgabe verbundene Zoll-und Lagerkosten zu übernehmen und die Erzeugnisse wieder an sich zu nehmen;

II.
festzustellen,

dass die Beklagte verpflichtet ist, dem Kläger allen Schaden zu ersetzen, der diesem durch die zu Ziffer I. 1 bezeichneten, seit dem 13.11.2003 begangenen Handlungen entstanden ist und noch entstehen wird, wobei sich die Schadensersatzpflicht für die vor dem 31.12.2009 begangenen Handlungen auf die Herausgabe dessen beschränkt, was die Beklagte durch die Nutzung des EP 0 793 XXX B1 auf Kosten des Klägers erlangt hat.

Die Beklagte beantragt,

die Klage abzuweisen,

Die Beklagte behauptet, es könnten nicht sämtliche angegriffene Ausführungsformen über den e-Store erworben werden, sondern nur die N als Teil des M sowie das Produkt O. In diesem Zusammenhang bestreitet die Beklagte mit Nichtwissen, dass der Kläger den Bewegungssensor K bei J erworben habe.
Ferner habe der Kläger von der Existenz und der Anwendung des Thelma-Verfahrens durch die Beklagte bereits im Jahre 2003 Kenntnis durch den Ergebnisbericht erlangt, der im Rahmen des Forschungsprojekts C per Email am 02.01.2003 – unstreitig – verschickt wurde.

Die Beklagte ist der Auffassung, es fehle bereits an der Zulässigkeit der Klage, da das Landgericht Düsseldorf international nicht zuständig sei.

Ergebnis des klagepatentgemäßen Verfahrens sei die Herstellung von Mikrostrukturen, die unter einer spezifischen durch das Verfahren vorgegebenen Spannung stehen.
Bei dem klagepatentgemäßen Verfahren würden bei Abscheidung der Polysiliziumschicht deren späteren Spannungsverhältnisse bestimmt. Dies geschehe im Sinne eines numerus clausus allein durch die Variation der Abscheideparameter Druck und Temperatur. Jedenfalls handele es sich hierbei aber um die dominanten Parameter. Ein Einstellen setze voraus, dass vorab ein Ziel definiert werden müsse und hierzu eine Anpassung und eine Änderung vorgenommen werde.
Maßgeblich sei die letztlich erzielte Spannung im Endprodukt, die durch diese Kopplung erreicht werde. Schichtspannung und vorgebbare mechanische Spannung sollten durch dieselben Parameter verlässlich vorgegeben werden können. Sowohl der Begriff der Schichtspannung als auch der Begriff der mechanischen Spannung der freistehenden Mikrostruktur bezögen sich auf die freistehende Mikrostruktur des Endprodukts. Die ursprünglich erzielten Spannungswerte müssten den Endwert nachweislich prägen. Eine Varianz von 4,5 MPa sei nach dem Klagepatent eine beachtliche Veränderung des Spannungswertes.
Durch die Formulierung „schließlich“ erkenne der Fachmann, dass die Entfernung der Opferschicht ausschließlich nach Auftragung der Funktionsschicht erfolge. Freistehende Strukturen ließen sich auch ohne Entfernung der Opferschicht erzeugen, etwa indem die Opferschicht unter Verwendung einer sog. Maske aufgetragen wird.

Beim Thelma-Verfahren werde kein besonderer Prozessdruck gewählt und durch die Verwendung des Prozess-Druckes werde nicht die Art der Schichtspannung eingestellt. Gleiches gelte für die Temperatur. Selbst bei Verwendung identischer Abscheidetemperaturen würden unterschiedlich hohe Spannungswerte der Endprodukte erzielt. Es würden bei Abscheidung die Spannungsart und der Spannungsbetrag der freistehenden Mikrostrukturen nicht durch Variation von Prozessdruck und -temperatur eingestellt. Die erzielte Schichtspannung ergebe sich aus der Dicke der EPL-Schicht, sie werde aber weder kontrolliert noch eingestellt. Dies zeige die ausschließliche Verwendung von Atmosphärendruck als Prozessdruck, die in Abhängigkeit von der Schichtdicke zu Druck- und Zugspannungen führe. Eine Variation des Abscheidedrucks sei insbesondere ohne eine Modifikation der Hardware nicht möglich.
Ferner erfolge nach Abscheidung der EPL-Schicht das „Tempern“. Bei diesem speziellen Verfahrensschritt werde unter anderem die EPL-Schicht in einer oxidierenden Umgebung stark erhitzt. Dadurch verändere sich der Betrag der Eigenspannung der EPL-Schicht, ohne dass für die Modalitäten des Temperns die Art und der Betrag der Schichtspannung von Bedeutung wären. Sinn und Zweck des Temperns sei es, den Spannungsgradienten der EPL-Schicht einzustellen, der die maßgebliche Größe beim Thelma-Verfahren darstelle. Messungen von fünf ihrer Produkte (vgl. Tabelle Bl. 94 GA) zeigten, dass für die erzielten Spannungswerte der EPL-Schicht im Thelma-Verfahren das Tempern entscheidend sei.
Die Spannungsverhältnisse, die unmittelbar nach dem Abscheidungsvorgang vorlägen, seien wegen des nachfolgenden Temperns nicht mit den endgültigen Werten der hergestellten freistehenden Mikrostrukturen identisch. Es bestünden erhebliche Varianzen zwischen den Endspannungen von 4,6 MPa und 8,2 MPa. Bei gleichem Prozessdruck träten unterschiedliche Arten von Schichtspannungen auf.
Ferner würden die Spannungsverhältnisse – Druck- oder Zugspannungen – ganz wesentlich von der jeweiligen Dicke der EPL-Schicht abhängen.
Ferner werde im Thelma-Verfahren die Opferschicht zwar zumindest teilweise entfernt, allerdings erst nach Auftragung der Funktionsschicht.

Bei den angegriffenen Ausführungsformen handele es sich nicht um unmittelbare Verfahrenserzeugnisse. Jedenfalls durch das Tempern verlören die angegriffenen Ausführungsformen sämtliche klagespezifischen Charakteristika.
Der Gegenstand des Klagepatent sei weder ein Verfahren zur Herstellung eines neuen Erzeugnisses noch handele es sich bei den angegriffenen Ausführungsformen um gleiche Erzeugnisse im Sinne des § 139 Abs. 3 S. 1 PatG.
Im Hinblick auf die Webseite der Beklagten liege auch deshalb kein Anbieten für den deutschen Markt vor, weil die Webseite nur in den Sprachen Englisch, Chinesisch und Japanisch verfügbar sei.
Im Übrigen bestehe keine Erstbegehungsgefahr für die übrigen Benutzungshandlungen gem. § 9 S. 2 Nr. 3 PatG.

Der Rechtsstreit sei auszusetzen, weil sich das Klagepatent als nicht rechtsbeständig erweisen werde. Die Arbeiten von P (Anlagenkonvolut FBD B8 (Anlage SP4); Anlage FBD B 9), Q et al. (Anlagenkonvolut FBD B 8 (Anlage SP 12); Anlage FBD B 10) und R et al. (Anlage FBD B 14) träfen das Klagepatent neuheitsschädlich. Ferner sei das Klagepatent unzulässig erweitert und nicht ausführbar. Schließlich stünde auch die mangelnde erfinderische Tätigkeit dem Rechtsbestand des Klagepatents entgegen.

Überdies erhebt die Beklagte gegenüber allen geltend gemachten Ansprüchen die Einrede der Verjährung. Der Kläger habe spätestens am 02.01.2003 mit Erhalt des Erfahrungsberichts im Rahmen des Forschungsprojekts C Kenntnis von dem streitgegenständlichen Thelma-Verfahren erlangt.

Jedenfalls seien die Ansprüche nach § 242 BGB verwirkt. Nachdem der Kläger seit über 10 Jahren gesicherte Kenntnis darüber gehabt habe, wie das Thelma-Verfahren arbeite, und keine Patentrechte gegen die Beklagte geltend gemacht habe, habe die Beklagte auf eine Nichtinanspruchnahme vertrauen dürfen. Aus dem Kooperationsverhältnis im Rahmen des C-Projektes folge eine Rücksichtnahmepflicht, die beinhalte, dass der jeweilige Kooperationspartner darauf hinweise, wenn er der Ansicht sei, dass das eingebrachte Verfahren von einem seiner Patente Gebrauch mache. Ein Verschweigen sei schon deswegen treuwidrig, da es das Risiko berge, dass auch die gemeinsame Entwicklung patentverletzend und damit in ihrem Wert gemindert sei.

Der Kläger ist der Ansicht, es läge – mit Ausnahme der kenntnisunabhängigen zehnjährigen Verjährung – weder Verjährung noch Verwirkung vor. Er habe erst seit dem Zeitpunkt der Erhebung der hiesigen Klage eine hinreichende Kenntnis von der Patentverletzung. Er habe erst im Zusammenhang mit der streitigen Auseinandersetzung mit der Beklagten Kenntnis von Tatsachen bekommen, die die vorgetragene Patentverletzung belegen würden.

Wegen der weiteren Einzelheiten des Sach- und Streitstandes wird auf die zwischen den Parteien gewechselten Schriftsätze und auf die zu den Akten gereichten Unterlagen sowie auf das Protokoll der mündlichen Verhandlung vom 21.04.2015 Bezug genommen.

ENTSCHEIDUNGSGRÜNDE

Die Klage ist zulässig und begründet.

Der Kläger hat gegen die Beklagte Ansprüche auf Unterlassung, Auskunft und Rechnungslegung, Rückruf sowie Schadensersatz dem Grunde nach aus Art. 64 EPÜ i.V.m. §§ 139 Abs. 1 und 2, 140a Abs. 1, 140b Abs. 1 und 3 PatG, §§ 242, 259 BGB wegen Verletzung des Klagepatents. Ein Anlass zur Aussetzung des Rechtsstreits besteht nicht.

Die Klage ist zulässig.

Die Kammer ist nach Art. 5 Nr. 3 LugÜ i.V.m. § 143 Abs. 2 PatG i.V.m der Verordnung über die Zuweisung von Gemeinschaftsmarken-, Gemeinschaftsgeschmacksmuster-, Patent-, Sortenschutz-, Gebrauchsmusterstreitsachen und Topographieschutzsachen vom 30. August 2011 international und örtlich zuständig.
Nach Art. 5 Nr. 3 LugÜ kann eine Person, die ihren Wohnsitz im Hoheitsgebiet eines Vertragsstaats hat, in einem anderen Vertragsstaat verklagt werden, wenn eine unerlaubte Handlung oder eine Handlung, die einer unerlaubten Handlung gleichstellt ist, oder Ansprüche aus einer solchen Handlung den Gegenstand des Verfahrens bilden. Gerichtsstand ist in diesem Fall das Gericht des Ortes, an dem das schädigende Ereignis eingetreten ist. Nach der Rechtsprechung des BGH zu Parallelvorschriften ist anerkannt, dass bei der Auslegung des LugÜ die Parallelvorschriften des EuGVÜ – als Vorgängernorm zur EuGVVO – und die insoweit ergangene Rechtsprechung zu beachten ist (vgl. BGH, NJW-RR 2010, 644). Der Ort, an dem das schädigende Ereignis eingetreten ist, erfasst sowohl den Handlungs- als auch den Erfolgsort (vgl. Zöller/Geimer, 30. Aufl., Anh I Art 5 EuGVVO, Rn. 26). Der Erfolgsort ist der Ort, an dem in das geschützte Rechtsgut eingegriffen wurde, also der Schutzstaat. Dabei ist nicht notwendig, dass durch die Benutzung des Klagepatents tatsächlich eine Verletzung des nationalen Rechts vorliegt. Es genügt, dass eine Verletzung behauptet und diese nicht von vorneherein ausgeschlossen werden kann (BGH, GRUR 2005, 432 – HOTEL MARITIME). Es handelt sich hierbei um eine doppeltrelevante Tatsache, bei der eine begrenzte Schlüssigkeitsprüfung dahin zu erfolgen hat, ob, das Vorbringen des Klägers unterstellt, der Rechtsweg zulässig ist (vgl. BGH, NJW-RR 2010, 1004).
Der Kläger hat schlüssig behauptet, dass die Beklagte die angegriffenen Ausführungsformen in Deutschland anbiete und vertreibe. Damit liegt der Erfolgsort in Deutschland. Da die angegriffenen Ausführungsformen auch für NRW angeboten werden, ist die örtliche Zuständigkeit des Landgerichts Düsseldorfs gegeben.

II.

Das Klagepatent betrifft ein Verfahren zur Herstellung mikromechanischer Bauelemente mit freistehenden Mikrostrukturen oder Membranen.

Aus dem Stand der Technik ist die Oberflächenmikromechanik (surface micromachining) bekannt, mit der freistehende, bewegliche Mikrostrukturen auf einer Substrat-oberfläche hergestellt werden können. Strukturbasis sind Sandwichsysteme aus verschiedenen Schichten, die selektiv zueinander geätzt werden können. Nach Strukturierung der oberen Schicht (z.B. Polysilizium) wird die darunter liegende Opferschicht (z.B. Siliziumdioxid) naßchemisch entfernt, so dass freistehende, beispielsweise brücken- oder zungenförmige Strukturen entstehen.
Als Strukturmaterial wird hauptsächlich polykristallines Silizium (Polysilizium) eingesetzt. Die hierfür erforderlichen Schichtdicken liegen im Bereich von wenigen µm bis hin zu 10 µm. Bei elektronischen Bauelementen liegen die erforderlichen Schichtdicken maximal im Bereich von einigen 100 nm. Die Schichten werden – so das Klagepatent – in Niederdruck Chemical Vapor Deposition (LPCVD)Reaktoren abgeschieden, wobei die Abscheideraten von ca. 20 nm/min relativ niedrig sind. Das Klagepatent erläutert, dass die innerhalb akzeptabler Prozesszeiten zu erreichende Schichtdicke in diesen Systemen auf etwa 2 µm beschränkt sei und sich dieses Abscheideverfahren daher nicht für Anwendungsfälle eigne, in denen Schichtdicken bis zu einigen 10 µm erforderlich seien.
An den vorbekannten Verfahren kritisiert das Klagepatent die in den dort hergestellten Polysiliziumschichten entstehende mechanische Spannung. Die in der Mikroelektronik standardmäßig verwendete Prozesstemperatur liegt – so das Klagepatent – zwischen 630°C und 650°C. Bei diesen Temperaturen steht die abgeschiedene Polysiliziumschicht immer unter Druckspannung. Laut dem Klagepatent sind für viele Anwendungsbereiche in der Mikromechanik aber Zugspannungen im Material erwünscht, da beispielsweise Membranen oder Brückenstrukturen im Fall von Druckspannungen Wölbungen ausbilden.
Das Klagepatent erläutert zwei weitere vorbekannte Verfahren zur Steuerung der Schichtspannungen. In der Veröffentlichung H. Guckel et al., 1988, Solid State Sensor & Actuator workshop, Hilton Head Island, SC, 69 june 1988m, pp. 96, ist ein Verfahren zur Herstellung von Polysiliziumschichten mit Zugspannungen dargestellt, in dem die Abscheidetemperatur kleiner als 580°C ist. Hier ist die abgeschiedene Schicht jedoch nicht polykristallin, sondern mehr oder weniger amorph. Für die Kristallation wird sie einer nachfolgenden Temperaturbehandlung bei 900 °C unterzogen. Die dabei erfolgende Umordnung der Siliziumatome ist mit einer Volumenkontraktion verbunden, die abermals zu Zugspannungen im Material führt. Erfolgt jedoch eine Temperung bei Temperaturen oberhalb von 1000°C, so wandeln sich die Zugspannungen wieder in Druckspannungen. In der Veröffentlichung von P. Q et al., Tech. Digest, 6th In. Conf.Solid-State Sensors and Actuators (Transdurchers 91), San Francisco, 24-27 June 1991, pp. 949, wird ein Verfahren beschrieben, bei dem durch Wahl der Abscheidetemperatur Zugspannung (T ca. 605°C) oder eine Druckspannung (T > 620°C) erzeugt wird.
An diesen Verfahren kritisiert das Klagepatent, dass die dort erzeugten Spannungswerte in der Polysiliziumschicht nur schlecht reproduzierbar sind. Überdies ist die innerhalb vertretbarer Prozesszeiten erreichbare Schichtdicke auf ca. 2 µm begrenzt. Die Verfahren sind nach dem Klagepatent gleichfalls nicht geeignet für freistehende Strukturen, die Schichtdicken bis zu einigen 10 µm erfordern.
Schließlich ist aus dem Stand der Technik ein Verfahren bekannt, bei dem Polysilizium mittel Gasphasenabscheidung (CVD) bei im Vergleich zu LPCVD erhöhtem Druck abgeschieden wird. Mit diesem Verfahren werden Abscheideraten von 60 -50 nm/min erzielt, so dass Polysiliziumschichten mit einer Dicke von 15 µm hergestellt werden können. Laut dem Klagepatent wird jedoch kein Hinweis darauf gegeben, in welcher Weise die Schichtspannungen der Polysiliziumschichten bei der Abscheidung beeinflussbar sind.

Vor diesem Hintergrund stellt sich das Klagepatent die Aufgabe, ein Verfahren zu Herstellung mikromechanischer Bauelemente mit freistehenden Mikrostrukturen oder Membranen anzugeben, die unter einer vorgebbaren mechanischen Spannung stehen.

Zur Lösung dieser Aufgabe schlägt das Klagepatent ein Verfahren nach Anspruch 1, 3 und 4 mit den folgenden Merkmalen vor:

1.
Verfahren zur Herstellung mikromechanischer Bauelemente

2.
Die Bauelemente weisen freistehende Mikrostrukturen auf.

3.
Die freistehenden Mikrostrukturen stehen unter einer vorgebbaren mechanischen Spannung.

4.
Es wird eine Opferschicht auf ein Substrat aufgebracht.

5.
Auf der Opferschicht wird eine Polysiliziumschicht in einem Reaktor mittels Gasphasenabscheidung (CVD) abgeschieden.

a.
Die Polysiliziumschicht wird bei einem Prozessdruck von mehreren 100 Pa abgeschieden.

b.
Die Höhe der Prozesstemperatur liegt im Bereich zwischen 600 und 1200°C.

c.
Die Art der Schichtspannung der Polysiliziumschicht, d. h. Zug- oder Druckspannung, wird über die Höhe des Prozessdruckes eingestellt.

d.
Der Betrag der Schichtspannung der Polysiliziumschicht wird über die Höhe der Prozesstemperatur eingestellt.

6.
Schließlich wird die Opferschicht zumindest teilweise entfernt.

7.
Zur Erzeugung einer hohen Schichtspannung wird eine niedrige Abscheidetemperatur gewählt.

8.
Zur Erzeugung einer geringen Schichtspannung wird eine hohe Abscheidetemperatur gewählt.

9.
Als Reaktor wird ein Epitaxie-Reaktor oder ein Polysilizium-Einzelscheibensystem eingesetzt.

III.

Im Hinblick auf den Streit der Parteien bedürfen die Merkmale 3, 5c, 5d und 6 der Auslegung und näheren Erläuterung.

1)
Nach Merkmal 3 stehen die freistehenden Mikrostrukturen unter einer vorgebbaren Spannung. Merkmalsgruppe 5 charakterisiert die Schichtspannung bei der Abscheidung der Polysiliziumschicht näher (Merkmal 5). Danach wird die Art der Schichtspannung der Polysiliziumschicht, d.h. Zug- oder Druckspannung, über die Höhe des Prozessdruckes eingestellt (Merkmal 5c). Der Betrag der Schichtspannung der Polysiliziumschicht wird über die Höhe der Prozesstemperatur eingestellt (Merkmal 5 d).
Der Fachmann erkennt, dass die vorgebbare mechanische Spannung in den freistehenden Mikrostrukturen über die Regulierung der Verfahrensparameter Druck und Temperatur bis zu einem gewissen Grad reproduzierbar vorbestimmt wird. In diesem Zusammenhang ist ihm bewusst, dass neben dieser Wirkbeziehung weitere Parameter Einfluss auf die endgültig in der Mikrostruktur vorliegende Spannung haben. Für die angestrebte Reproduzierbarkeit identifiziert das Klagepatent dennoch diese beiden Parameter als relevant. Das klagepatentgemäße Verfahren eröffnet die Möglichkeit, durch die Einstellung der Schichtspannung mittels Druck und Temperatur eine im gewissen Umfang vorbestimmte und reproduzierbare Spannung in den Mikrostrukturen zu erhalten. Dabei schließt das Klagepatent weitere bzw. ergänzende Bearbeitungsschritte/Maßnahmen nicht aus.

a)
Die Merkmale 5a und 5b geben die Bandbreite von Druck und Temperatur vor, in der das klagepatentgemäße Verfahren bei der Abscheidung der Polysiliziumschicht arbeitet. Der Druck liegt bei mehreren 100 Pa und die Prozesstemperatur zwischen 600° und 1200°C. Genauere Vorgaben macht das Klagepatent nicht.
Über die Höhe des Prozessdrucks und der Temperatur werden Art und Betrag der Schichtspannung der Polysiliziumschicht eingestellt (Merkmale 5c und 5d). Diese Schichtspannung ist nicht identisch mit der mechanischen Spannung, unter der die Mikrostrukturen nach Entfernung der Opferschicht stehen (Merkmal 3). Vielmehr handelt es sich um die Schichtspannung, welche die Polysiliziumschicht unmittelbar nach ihrer Abscheidung in einer Ebene parallel zur Substratebene aufweist. Anderes folgt auch nicht aus Absatz [0025] des Klagepatents. Die dort a.E. genannte Schichtspannung ist diejenige, die die freitragenden Strukturen nach der teilweisen Entfernung der Opferschicht aufweisen. Dass es sich hierbei zwingend um die gleichen Spannungswerte wie nach Beendigung des Abscheidevorgangs handelt, ist dem Klagepatent an dieser Stelle nicht zu entnehmen. Dies schon deshalb nicht, weil die Entfernung der Opferschicht regelmäßig zu Spannungsänderungen führt, so dass die Schichtspannung in den freitragenden Mikrostrukturen in der Regel nicht mit der Schichtspannung unmittelbar nach deren Abscheidung und vor Entfernung der Opferschicht übereinstimmt. Die Kammer kann daher dem Verständnis der Beklagten, wonach der Klagepatentanspruch ein Verfahren schütze, bei dem konkret ein Spannungswert beim Abscheidevorgang eingestellt und gemessen werde, der identisch sei mit dem endgültigen Spannungswert der hergestellten Mikrostruktur, nicht beitreten.
Die Einstellung der Schichtspannung erfolgt durch die Verwendung eines bestimmten Prozessdrucks und einer bestimmten Prozesstemperatur, um eine bestimmte Schichtspannung nach Art und Betrag reproduzierbar zu erzielen. Vor dem Hintergrund des Standes der Technik versteht der Fachmann unter „reproduzierbar“ eine bestimmte Schichtspannung im Rahmen geringer Abweichungen im einstelligen MPa-Bereich, die er wiederholt erzielen kann. Der Anspruch stellt die Wirkbeziehung zwischen Druckhöhe und Art der Spannung (Zug- oder Druckspannung) heraus. Der Wortlaut erfasst dabei ausdrücklich beide Spannungsarten und legt sich nicht auf eine der beiden fest. Unter den Wortlaut fällt somit ebenso eine Zugspannung, die bei Atmosphärendruck auftritt. Sofern in der Beschreibung (Absatz [0013]) und in den Figuren des Klagepatents (Figur 2) Ausführungsbeispiele genannt sind, nach denen bei Atmosphärendruck Druckspannung erreicht wird, beschränken diese den Schutzbereich des weiter gefassten Anspruchs nicht. Erst Anspruch 2 legt sich auf die Erzeugung von Druckspannung bei Atmosphärendruck fest.
Die Wirkbeziehung greift das Klagepatent auch in Absatz [0015] auf. Dort würdigt das Klagepatent als besonderen Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens, dass sich mit der Variation von Druck und Temperatur und der so reproduzierbaren Einstellung von Art und Betrag der Schichtspannung freistehende Mikrostrukturen oder Membranen mit vorgebbaren mechanischen Spannungen reproduzierbar herstellen lassen. Die Wirkbeziehung zwischen dem Betrag der Schichtspannung und der Höhe der Prozesstemperatur spiegelt sich ebenfalls in Merkmal 5d wieder. Als vorzugswürdige Beträge der Schichtspannung nennt das Klagepatent in seinen Ausführungsbeispielen Beträge von 3,0 bis 7,5 MPa (Absätze [0013], [0022], Figur 1). Dabei handelt es sich im Vergleich zu den im Stand der Technik erzielten Werten um geringere Spannungswerte im einstelligen MPa-Bereich.
Der Klagepatentanspruch setzt nicht voraus, dass bei gleichem Prozessdruck und gleicher Prozesstemperatur selbst dann dieselbe Schichtspannung erzielt wird, wenn andere Parameter des Herstellungsverfahrens, wie z.B. die Schichtdicke, die Abscheiderate o.ä. verändert werden. Solche anderen Parameter, die die Spannungsverhältnisse ebenfalls beeinflussen, schließt das Klagepatent nicht aus. Sie sind indes für den Kern der klagepatentgemäßen Erfindung, eine Mikrostruktur gesteuert reproduzieren zu können, nicht ausschlaggebend. Dass die Schichtdicke Einfluss auf die Spannungsverhältnisse haben muss, ergibt sich bereits aus den unterschiedlichen Prozesszeiten, die das Klagepatent anspricht (Absätze [0014]).
Dem Anspruch lässt sich nur entnehmen, dass bei veränderten Bedingungen über eine entsprechende Anpassung von Prozessdruck und -temperatur eine bestimmte Schichtspannung erzielt werden kann. Dass immer dieselbe Schichtspannung erzielt werden muss, wird indes nicht verlangt. Ebenso wenig ist das Ziel, eine konkrete Schichtspannung zu reproduzieren, notwendig. Nach dem Verfahren bedarf es keiner bewussten Auswahl von Druck und Temperatur nach bestimmten Kriterien oder Messungen. All dies ist nicht Gegenstand des Anspruchs. Ausreichend ist bereits, wenn sich Prozessdruck und Prozesstemperatur im beanspruchten Bereich befinden und die Polysiliziumschicht bei im Übrigen identischen Bedingungen wiederholt mit einer nach Art und Betrag bestimmten Schichtspannung abgeschieden wird. Vor diesem Hintergrund spielt weder ein zeitlicher Aspekt eine Rolle noch erkennt der Fachmann einen „numerus clausus“ der Einstellungsparameter im Anspruch.
Bei dem klagepatentgemäßen Verfahren handelt es sich um einen komplexen Prozess mit vielen chemischen Einzelschritten. Dessen ist sich der Fachmann bewusst. Aus diesen nimmt das Klagepatent nur die Wirkbeziehung der Parameter Druck und Temperatur für eine reproduzierbare Einstellung der Schichtspannung in den Blick.

b)
Durch die Einstellung von Prozessdruck und -temperatur werden zwangsläufig freistehende Mikroelemente hergestellt, die unter einer vorggebaren mechanischen Spannung stehen (Merkmal 3).
Dem Begriff „vorgebbar“ wohnt nach seinem Wortsinn keine zeitliche Komponente inne, aus der der Fachmann eine unmittelbare kausale Abhängigkeit zwischen der Schichtspannung der Polysiliziumschicht und der Spannung der Mikrostruktur im Sinne eines bestimmten Wertes folgert. Vielmehr besagt dies lediglich, dass die Spannung bestimmbar und herstellbar ist, wenn die Verfahrensschritte der Merkmale 5c und 5d erfüllt werden. Merkmal 3 steht mit den Merkmalen 5c und 5d in Zusammenhang. Die Einstellung von Prozessdruck und -temperatur bedingten in gewissem Umfang die Spannung in den Mikrostrukturen. Dies zeigt Absatz [0013], in dem das Klagepatent bei der Beschreibung der Einstellung der Art der Schichtspannung der Polysiliziumschicht an die Spannung der Mikrostruktur anknüpft. Durch die geeignete Wahl des Prozessdruckes kann die Art der Schichtspannung der Polysiliziumschicht, und damit der freistehenden Mikrostruktur oder Membran eingestellt werden. Die eingestellte Schichtspannung bildet die vorgebbare Spannung in der Mikrostruktur hingegen nicht identisch ab. Aufgrund letzterer eignet sich das klagepatentgemäße Verfahren vielmehr, die Spannung der Mikrostrukturen bis zu einem gewissen Grad reproduzierbar vorzubestimmen. Der Einfluss der Parameter Druck und Temperatur wird umso geringer, je mehr ergänzende Bearbeitungsschritte in dem Verfahren hinzutreten. Es gibt keine Anhaltspunkte in der Klagepatentschrift, dass Bearbeitungsschritte, die Auswirkungen auf die Spannung der Mikrostrukturen haben, ausgeschlossen seien. So nennt Unteranspruch 9 beispielsweise das Aufbringen weiterer Schichten mit hohen Zugspannungen unterhalb oder oberhalb der Polysiliziumschicht. Hierauf nimmt ebenso Absatz [0019] Bezug. Dass andere Zwischenschritte, wie das Tempern, zu Spannungsänderungen führen, erläutert das Klagepatent in Absatz [0007]. Diese Änderungen der Spannungsverhältnisse ändern jedoch nichts an der Wirkbeziehung zwischen der am Ende vorliegenden Spannung in der Mikrostruktur und der durch erhöhten Druck und der vorgegebenen Temperaturspanne eingestellten Schichtspannung der Polysiliziumschicht.

2)
Merkmal 6 verlangt, dass die Opferschicht schließlich teilweise entfernt wird. Die Entfernung der Opferschicht ist erforderlich, damit letztendlich freistehende Strukturen entstehen können. Aus der Angabe „schließlich“ folgert der Fachmann nicht, dass die Opferschicht ausschließlich nach Abscheidung der Polysiliziumschicht ganz oder teilweise entfernt werden muss. Da das Klagepatent weitere Bearbeitungsschritte vor, während oder nach den im Anspruch beschriebenen Verfahrensschritten nicht generell ausschließt, kennzeichnet der Begriff allenfalls den letzten der im Anspruch beschriebenen Verfahrensschritte.

IV.
Nach der von der Kammer vorgenommenen Auslegung liegt eine Verletzung des Klagepatents vor.

a)
Die Beklagte hat Messungen von fünf verschiedenen Ausführungsformen (S 1-bis 3 (K, H & K); T-1 und T-2 (U, V)) vorgelegt, die belegen, dass bei ihrer Herstellung bei Temperaturen zwischen 1185°C und 1190°C unter Atmosphärendruck die Polysilizium-Schicht (EPL-Schicht) abgeschieden wird. Die angegriffenen Ausführungsformen unterscheiden sich in der Schichtdicke (15µm, 22µm und 24 µm) und in den verwendeten EPL Formeln (R1, R2, R3). Nur bei 15µm Schicht-Dicke (S 1) wird bei 1185°C und Atmosphärendruck Druckspannung erreicht. Bei den dickeren Schichten wird bei 1190°C und Atmosphärendruck Zugspannung erreicht.

b)
Die angegriffene Ausführungsform S 1 (K) zeigt die in den Merkmalsgruppe 5 genannten Einstellungen. Die EPL-Schicht wird bei Atmosphärendruck (101.325 Pascal) und im Rahmen des beanspruchten Temperaturbereichs von 600°C und 1200°C Druckspannung abgeschieden. Durch die Höhe des Prozessdruckes bestimmt die Beklagte die Art der Spannung. So erwähnt das Klagepatent in einem Ausführungsbeispiel, dass bei Atmosphärendruck als Prozessdruck Druckspannung in der Polysiliziumschicht erzeugt wird (Absatz [0014]). Auch wenn hierbei eine Streuungsbreite der Spannung der EPL-Schicht auftritt, handelt es sich bei dieser Spannung zwischen 0,4 – 1.6 MPa um einen reproduzierbaren Wert, der von allen Wafern, die unter gleichen Bedingungen hergestellt werden, wieder erreicht wird. Dass diese Spannungen nur einmalig auftreten oder von Charge zu Charge variieren, ist weder ersichtlich noch seitens der Beklagten vorgetragen. Nach der Auslegung der Kammer ist es daher unerheblich, dass die Spannung durch das Tempern noch einmal verändert wird und zu einer am Ende höheren Schichtspannung der Mikrostruktur von 3,5 MPa (Merkmal 3) führt. Die reproduzierbare Schichtspannung in der Polysiliziumschicht bildet den Ausgangswert für das anschließende Tempern zur Veränderung des Spannungsgradienten. Am Ende resultiert bei dem Thelma-Verfahren eine vorgebbare Spannung der Mikrostruktur von 3,5 MPa, die maßgeblich durch die Ausgangsspannung der EPL-Schicht bedingt ist. Letztere ist wiederum durch die spezifischen Druck- und Temperaturverhältnisse eingestellt.
Die gleichen Erwägungen treffen für die weiteren gemessenen angegriffenen Ausführungsformen zu. Schwankungen, die zwischen den Schichtspannungen nach dem Abscheiden und vor dem Tempern sowie nach dem Tempern bis zu 7,8 MPa (z.B. bei T- 1 U) bestehen, führen nicht aus der Verletzung heraus. Durch die Einstellung der Temperatur zwischen 1185°C und 1190°C und dem Atmosphärendruck werden reproduzierbare Spannungsergebnisse im einstelligen MPa-Bereich erzielt. Mehr verlangt das Klagepatent nicht. Die Abweichungen, bedingt durch andere Einflussfaktoren (Schichtdicke; Zusammensetzung des Substrats) und zusätzliche Verfahrensschritte (Tempern), ändern nichts daran, dass im Rahmen dieser Variationsbreite die Spannungsergebnisse reproduzierbar sind.

c)
Der Einwand der Beklagten, sie erhalte bei gleichem Druck und mehr oder weniger gleicher Temperatur bei den anderen vier gemessenen Ausführungsformen Zug-spannungen anstatt Druckspannungen, führt nicht aus der Verletzung des Klagepatents heraus. Der Anspruch sagt in Merkmal 5b) nichts darüber aus, dass bei Atmosphärendruck zwingend immer Druckspannung vorliegen müsse. Letzteres beansprucht das Klagepatent erst in Anspruch 2. Bei den untersuchten Ausführungsformen der Beklagten, die Zugspannung aufweisen, werden andere EPL-Formeln verwendet und die Schichtdicken unterscheiden sich. Der Kläger hat unwidersprochen vorgetragen, dass auch andere Parameter neben dem Prozessdruck Einfluss auf die Schichtspannung haben, nämlich die Unterlage, auf der die EPL-Schicht aufwächst, die Schichtdicke sowie eine gezielte in-situ-Phosphor Dotierung.
Schließlich kommt es nicht darauf an, ob bei einer Schichtdicke ab 20 µm regelmäßig zwei Abscheidungsvorgänge durchgeführt werden. Die Beklagte hat in der mündlichen Verhandlung unter Verweis auf die Email-Korrespondenz aus dem Jahre 2010 (Anlage FBD B6) vorgetragen, dass der Einsatz von 1- bzw 2-Schrittverfahren maßgeblich von den Reaktoren abhänge und die Mehrheit der Reaktoren, die die Beklagte verwende, im 1-Schritt-Verfahren arbeite (single step for EPI poly grade). Wie gesehen ändert die Schichtdicke trotz ihres Einflusses auf die Spannung jedoch nichts an dem Umstand, dass zunächst die gewählte Druckhöhe und Temperatur die Art der Spannung (mit-)reguliert.

d)
Die angegriffenen Ausführungsformen verwirklichen auch Merkmal 6. Unbeachtlich ist, dass die Opferschicht bereits vor Aufbringung der Polysiliziumschicht teilweise entfernt wird.

e)
Die Merkmale der Ansprüche 3 und 4 sind nur im Rahmen der obigen Verletzungsdiskussion bestritten und daher im Übrigen unstreitig verwirklicht.

Aus der Verwirklichung aller klagepatentgemäßen Merkmale durch die angegriffene Ausführungsform ergeben sich für den zugesprochenen Teil der Klage nachstehende Rechtsfolgen.

1)
Bei den angegriffenen Ausführungsformen handelt es sich um unmittelbare Verfahrenserzeugnisse nach § 9 Nr. 3 PatG.
Von einem unmittelbaren Verfahrenserzeugnis ist auszugehen, wenn folgende Voraussetzungen gegeben sind: Das Erzeugnis ist gegenständlich präsent, so dass die Formulierung eines (fiktiven) Sachanspruchs möglich wäre; es weist diejenigen Qualitäten auf, die das patentgeschützte Herstellungsverfahren verleiht und es hält trotz Weiterverarbeitung ein solche Nähe zum patentierten Herstellungsverfahren, dass es sich bei natürlicher Betrachtung bloß als eine andere Erscheinungsform des mit Abschluss des geschützten Verfahrens vorliegenden Erzeugnisses darstellt (vgl. Kühnen, Handbuch der Patentverletzung, 7. Aufl.. Rn. 261-264).
Diese Voraussetzungen liegen vor. Bei den angegriffenen Tskopen und Serometern handelt es sich um mikromechanische Bauelemente. Sie könnten unproblematisch durch einen Erzeugnisanspruch geschützt werden. Ferner ist Unmittelbarkeit gegeben, wenn das geschützte Verfahren bestimmungsgemäß zur Hervorbringung des Erzeugnisses nach der Verkehrsanschauung wesentlich beigetragen hat und das so geschaffene Erzeugnis seine charakteristischen Eigenschaften und seine Selbstständigkeit nicht durch eine weitere Behandlung einbüßt (vgl. OLG Düsseldorf, InstGE 7, 70 – Videosignal-Codierung I; Schulte/Rinken/Kühnen, PatG, 9. Aufl., § 9 Rn. 90). Die angegriffenen Ausführungsformen weisen die Qualitäten auf, die sie durch das Herstellungsverfahren erhalten. Sie sind Signalgeber, die in einem Chip o.ä. verwendet werden und ihre freistehenden Mikrostrukturen weisen eine bestimmte mechanische Spannung auf. Den Charakter als unmittelbares Erzeugnis des klagepatentgeschützten Verfahrens verlieren die angegriffenen Ausführungsformen nicht durch das nach dem Abscheiden durchgeführte Tempern. Das Tempern verändert die mechanische Spannung in den freistehenden Mikrostrukturen und knüpft an die Eigenschaft an, die mit dem klagepatentgemäßen Verfahren erzielt werden soll. Die Charakteristik unter einer Spannung im einstelligen MPa-Bereich zu stehen, büßt die angegriffene Ausführungsform nicht ein. Die mechanische Spannung der Mikrostrukturen ist maßgeblich durch den Abscheidevorgang der Epi-Poly-Schicht bedingt. Durch das Tempern, das im Wesentlichen dem Beseitigen des Spannungsgradienten dient, wird der einstellige MPa-Bereich hingegen nicht verlassen. So geht aus den Messungen der Beklagten hervor, dass nach dem Tempern keine EPL-Spannung der dort verwendeten angegriffenen Ausführungsformen die 10er MPa-Marke erreicht. Es ist weder vorgetragen noch ersichtlich, dass dies bei den anderen angegriffenen Ausführungsformen der Fall sei. Dass durch das Tempern bei manchen angegriffenen Ausführungsformen eine vorher bestehende Streuung der Spannungsbeträge eliminiert wird, schadet ebenfalls nicht. Insofern stellen die angegriffenen Ausführungsformen nach dem Tempern nur eine andere Erscheinungsform des mit Abschluss des beanspruchten Verfahrens vorliegenden Erzeugnisses dar. Abschließend nimmt auch der Einbau der angegriffenen Ausführungsformen in Chips, etc. nicht den Charakter als mikromechanische Bauelemente. Sie werden dadurch in ihrer Funktion nicht verändert, sondern nehmen im Gegenteil diese gerade als Bestandteil eines größeren Bauteils wahr.

2)
Der Kläger hat einen Anspruch auf Unterlassung nach § 139 Abs. 1 PatG i.V.m. Art. 64 EPÜ. Die Beklagte bietet die angegriffenen Ausführungsformen auf ihrer Internetseite www.st.com an. Neben der Abrufbarkeit des Internetangebots aus dem Inland muss das Angebot darüber hinaus einen wirtschaftlich relevanten Bezug zum Inland haben (vgl. BGH, GRUR 2005, 431 – Hotel Maritime; OLG Düsseldorf, OLGR 2008, 672). Das Internetangebot der Beklagten richtet sich an Fachunternehmen, die mikromechanische Bauteile verbauen. Es ist in englischer Sprache verfasst, die in der Maschinenbau- und IT-Branche die Fachsprache darstellt. Ausweislich Anlage K 19 können auf der Internetseite bei den einzelnen Typen der angegriffenen Ausführungsform bestimmte Vertriebsunternehmen über den Button „Order now“ angewählt werden. Neben diesen Button werden die Lieferregionen angezeigt. Dabei handelt es sich um „America“, „Europe“ und „Worldwide“. Offensichtlich erfassen die letzten beiden Regionen Deutschland, so dass das Angebot auch an den deutschen Markt gerichtet ist. Darüber hinaus ist unstreitig, dass es eine Vertriebshandlung der Beklagten über den estore direkt nach Deutschland gibt. Dies genügt ebenfalls für die Annahme der Erstbegehungsgefahr auch für die anderen geltend gemachten Benutzungshandlungen im Sinne des § 9 Nr. 3 PatG.

3)
Der Kläger hat gegen die Beklagte dem Grunde nach einen Anspruch auf Zahlung von Schadensersatz aus § 139 Abs. 1 und 2 PatG i.V.m. Art. 64 EPÜ, weil die Beklagte die Patentverletzung schuldhaft beging. Als Fachunternehmen hätte die Beklagte die Patentverletzung bei Anwendung der im Geschäftsverkehr erforderlichen Sorgfalt zumindest erkennen können, § 276 BGB. Es ist auch nicht unwahrscheinlich, dass dem Kläger als Inhaber des Klagepatents durch die Patentverletzung ein Schaden entstanden ist. Das für die Zulässigkeit des Feststellungsantrags gemäß § 256 Abs. 1 ZPO erforderliche Feststellungsinteresse ergibt sich daraus, dass der Kläger derzeit nicht in der Lage ist, den konkreten Schaden zu beziffern und ohne eine rechtskräftige Feststellung der Schadensersatzpflicht die Verjährung von Schadensersatzansprüchen droht. Sofern der Kläger den Anspruch für die Zeit vor dem 31.12.2009 auf Herausgabe dessen beschränkt hat, was die Beklagte durch Nutzung des Klagepatents auf Kosten des Klägers erlangt hat, ist dies unschädlich und bleibt insoweit der Dispositionsmaxime des Klägers überlassen.

4)
Dem Kläger steht gegen die Beklagte auch ein Anspruch auf Rechnungslegung und Auskunft aus § 140b Abs. 1 PatG i.V.m. Art. 64 EPÜ, §§ 242, 259 BGB zu. Der Anspruch auf Auskunft über die Herkunft und den Vertriebsweg der angegriffenen Ausführungsform ergibt sich aufgrund der unberechtigten Benutzung des Erfindungsgegenstands unmittelbar aus § 140b Abs. 1 PatG, der Umfang der Auskunftspflicht aus § 140b Abs. 3 PatG. Die weitergehende Auskunftspflicht und die Verpflichtung zur Rechnungslegung folgen aus §§ 242, 259 BGB, damit der Kläger in die Lage versetzt wird, den ihm zustehenden Schadensersatzanspruch zu beziffern. Der Kläger ist auf die tenorierten Angaben angewiesen, über die er ohne eigenes Verschulden nicht verfügt, und die Beklagte wird durch die von ihr verlangten Auskünfte nicht unzumutbar belastet.

5)
Schließlich hat der Kläger gegen die Beklagte einen Anspruch auf Rückruf der angegriffenen Ausführungsformen aus den Vertriebswegen, die vor Ende der Laufzeit des Klagepatents in die Vertriebswege gelangt sind, da die Beklagte mit der angegriffenen Ausführungsform die klagepatentgemäße Erfindung im Sinne von § 9 S. 2 Nr. 1 PatG benutzte, ohne dazu berechtigt zu sein. § 140a Abs. 3 PatG i.V.m. Art. 64 EPÜ,. Der Rückrufanspruch wird wegen seines zum Teil anderen Sinn und Zwecks im Vergleich zum Vernichtungsanspruch auch gegen im Ausland ansässige Verletzer zugesprochen (vgl. LG Düsseldorf, Urteil v. 19.09.2013, Az. 4c O 15/13; OLG Düsseldorf, Urteil vom 17.07.2014, Az. I-2 U 75/13). Für die Unverhältnismäßigkeit des Anspruchs bestehen keine hinreichenden Anhaltspunkte. Die seitens der Beklagten dargelegten Konsequenzen gehen nicht über das hinaus, was die unweigerlichen Folgen eines jeden Rückrufanspruches sind. Der Umstand, dass ein mikromechanisches Bauteil aus einer größeren Einheit – wie ein Mobiltelefon – ausgebaut werden muss, bedingt die Art der Mikrotechnik. Welche konkreten erheblichen wirtschaftlichen Folgen daraus hergeleitet werden sollen, hat die Beklagte nicht mitgeteilt. Dass die ausgebauten Tskope aus Mobiltelefonen, etc. nicht leicht durch andere, patentfrei hergestellte Tskope zu ersetzen wären, ist weder vorgetragen noch ersichtlich.

VI.

Die Beklagte ist nicht gemäß § 141 S. 1 PatG i.V.m. § 214 Abs. 1 BGB berechtigt, die Erfüllung der Schadensersatz- und Auskunftsansprüche zu verweigern. Sowohl die kenntnisabhängige dreijährige Verjährungsfrist als auch die kenntnisunabhängige zehnjährige Verjährungsfrist sind nicht abgelaufen, weil ihr Ablauf jedenfalls durch Einreichung der Klage gehemmt wurde.

1)
Gemäß Art. 229 § 6 Abs. 1 EGBG findet das aktuell geltende Recht auf alle am 01.01.2002 bestehenden und noch nicht verjährten Ansprüche Anwendung. Da § 141 PatG a.F. eine dreijährige kenntnisabhängige Verjährung und eine 30-jährigen kenntnisunabhängige Verjährung vorsah und die Beklagte sich für die Kenntnis des Klägers von den anspruchsbegründenden Umständen als frühesten Zeitpunkt auf das Jahr 2003 beruft, gilt für alle geltend gemachten Ansprüche das ab dem 01.01.2002 geltende Recht.

2)
Die regelmäßige Verjährungsfrist beträgt gemäß § 195 BGB drei Jahre. Sie beginnt gemäß § 199 Abs. 1 BGB mit dem Schluss des Jahres, in dem der Anspruch entstanden ist und der Gläubiger von den den Anspruch begründenden Umständen und der Person des Schuldners Kenntnis erlangt oder ohne grobe Fahrlässigkeit hätte erlangen müssen. Im Streitfall lässt sich nicht feststellen, dass der Kläger von dem angegriffenen Verfahren entsprechende Kenntnis bzw. fahrlässige Unkenntnis hatte.

a)
Kenntnis der haftungsbegründenden Tatsachen verlangt, dass diese so vollständig und sicher bekannt sind, dass sie einen zwar nicht risikolosen, aber doch einigermaßen aussichtsreichen Erfolg einer Klage versprechen und dem Verletzten daher bei verständiger Würdigung der Sach- und Rechtslage eine Klage zuzumuten ist (vgl. Kühnen, Handbuch der Patentverletzung, 7. Aufl., Rn. 1816 mit Hinweis auf BGH, GRUR 2012, 1279). Grob fahrlässig handelt der Gläubiger, wenn seine Unkenntnis darauf beruht, dass er die im Verkehr erforderliche Sorgfalt in gewöhnlich grobem Maße verletzt und ganz naheliegende Überlegungen nicht angestellt oder das nicht beachtet hat, was jedem hätte einleuchten müssen (vgl. BGH, NJW-RR 2009, 544; Palandt/Ellenberger, 74. Aufl., § 199 Rn. 39). Bei der Kenntnis/fahrlässigen Unkenntnis des Klägers als juristischer Person ist auf ihre Wissensvertreter abzustellen. Die Kenntniserlangung eines Wissensvertreters (§ 166 BGB analog) ist ausreichend. Wissensvertreter ist nur, wem die Tatsachenermittlung zur Aufklärung und Durchsetzung eines Anspruchs übertragen worden ist (Palandt/Ellenberger, 74. Aufl., § 199 Rn. 24 f.) Bei Unternehmen und öffentlichen Körperschaften kommt es auf die Kenntnis des nach der innerbetrieblichen Organisation zuständigen Bediensteten an. Das können auch mehrere Angestellte aus verschiedenen Abteilungen sein, die als Wissensvertreter mit der Vorbereitung und Verfolgung von Ansprüchen betraut sind, wobei die Rechtsprechung bislang eine Wissenszusammenrechnung ablehnt (Palandt/Ellenberger, 74. Aufl., § 199 Rn. 25 m.w.N.). Voraussetzung für eine Wissenszurechnung ist eine Pflicht zur Organisation eines Informationsaustausches (Berichtspflicht). Sie setzt voraus, dass Anlass zur Speicherung des Wissens bestand, typischerweise aktenmäßig festgehaltenem Wissen (vgl. Palandt/Ellenberger, 74. Aufl., § 166 Rn. 8).

b)
Der Kläger hatte im Jahre 2003 nicht bereits Kenntnis aller den Anspruch begründenden Tatsachen.
Aus dem Ergebnisbericht (Anlage FBD 5a) ergeben sich zwar die Merkmal 1 bis 5 sowie 6, ähnlich wie sie in der Langfelder-Veröffentlichung (Anlage K 11) gezeigt werden. Für die zusätzlichen Merkmale 5a bis 5d hat der Kläger die allgemeine Veröffentlichung zur Epitaxie (Anlage K 12) zur Klagebegründung hinzugezogen. Sofern man unterstellt, dass der Fachmann angesichts der Epitaxiebedingungen auch Kenntnis von der im Klagepatent beanspruchten Temperatur hat, hatte die Beklagte in dem Projekt C alle für das Klagepatent relevanten Merkmale des Thelma-Verfahrens offenbart. Abgesehen von der Frage, ob die Herren D und E als Wissensvertreter fungierten, ist aber nicht ersichtlich, dass der Kläger im Jahr 2003 tatsächlich Kenntnis von Angebots- und/oder Vertriebshandlungen der Beklagten hatte. Die insoweit darlegungs- und beweisbelastete Beklagte hat zwar anhand der Anlagen(konvolute) FBD 15, 16 dargelegt, dass die Beklagte bereits im Jahr 2003 MEMS-Produkte im Internet angeboten und vertrieben hat. Dass der Kläger als Forschungseinrichtung hiervon tatsächlich Kenntnis genommen hat, lässt sich daraus gleichwohl nicht schließen. Eine allgemeine Marktbeobachtungspflicht besteht insofern nicht (vgl. LG Düsseldorf, Urteil v. 04.08.2011, Az.: 4b O 54/10).

c)
Ferner ist auch eine fahrlässige Unkenntnis des Klägers nicht ersichtlich. Der Einwand der Beklagten, der Kläger habe grob sorgfaltswidrig gehandelt, weil jedenfalls die im C-Projekt beteiligten Herren D und E vom Thelma-Verfahren Kenntnis erlangt hätten und eine fehlende Berichtspflicht zu Lasten des Klägers gehe, verfängt aus mehreren Gründen nicht.
Der Kläger hat in der mündlichen Verhandlung dargelegt, dass die Institute des Klägers rechtlich nicht selbstständig seien, der Kläger als Rechtsträger sitze in München. Die Institute seien um eine Institutsleitung aufgestellt, die innerhalb eines genehmigten Budgets selbstständig agieren könne. Darunter falle aber weder das Führen von Rechtsstreitigkeiten noch die Anmeldung und Verwertung von Patenten. Die Leitung des am C-Projekt beteiligten Instituts oblag zum streitgegenständlichen Zeitpunkt einem Herrn W. Herr E war Gruppenleiter und Herr D Sachbearbeiter. Der Kläger hat vorgetragen, im Rahmen eines solchen Projekts wie des C-Projektes werde die Institutsleitung üblicherweise von Problemen und Erfolgen unterrichtet, ein sog. „day-to-day-briefing“ fände hingegen nicht statt. Die Institutsleitung verfüge daher über lokales, eher unspezifisches Wissen. Insbesondere hätten die Mitarbeiter das Patentportfolio und damit auch das Klagepatent nicht gekannt. Im Rahmen einer Patentportfolioanalyse habe der Kläger erst 2012 das Klagepatent entdeckt.
Vor diesem Hintergrund bestand für die Herren D und E keine Berichtspflicht. Das Thelma-Verfahren wurde zwar im C-Projekt vorgestellt. Dieses hatte aber im Schwerpunkt die Entwicklung einer verbesserten Vakuumvergusstechnik für MEMS zum Gegenstand. Es behandelte in erster Linie die Gehäuseverkapselung von MEMS auf Waverebene und nicht die Herstellung der einzelnen Schichten. Die Kenntnisnahme vom Thelma-Verfahren, das im Rahmen des Projektes erörtert wurde, gehörte somit nicht zu dem Wissen, welches die Herren D und E an die Institutsleitung als Gegenstand des Projektes weiterzugeben hatten. Die Organisation des Klägers war gerade nicht so strukturiert, dass jegliche Technik, mit der die Mitarbeiter in Berührung kommen, an die Institutsleitungen zu rapportieren gewesen ist. Ein Anlass für eine Berichtspflicht ist im vorliegenden Fall daher nicht ersichtlich. Etwas anderes folgt für das Jahr 2003 auch nicht aus dem Jahresbericht 2013 (Anlage FBD B 21) und dem Ingenia 2005 – Bericht (Anlage FBD B 23). Die dort getätigten Aussagen über Patentverwertung, IP Management und Patentstrategieprozesse fallen in andere, spätere Zeiträume. Ihnen kommt allenfalls eine Indizwirkung für die Zukunft zu, in der eine weitergehende(r) Etablierung und Ausbau eines Lizensierungs- und Patentverwertungssystems gegebenenfalls engere Organisationspflichten nach sich zieht. Abgesehen davon, dass letzteres nicht entscheidungserheblich ist, liegt eine allgemeine Berichtspflicht jeglicher Technik auch vor diesem Hintergrund nicht auf der Hand.

d)
Darüber hinaus liegt ein Organisationsfehler beim Kläger nicht vor. Allenfalls die Institutsleitung fungiert als Wissensvertreter. Höhere Anforderungen an die Berichtspflichten der übrigen Mitarbeiter des Instituts als solche wie oben dargestellt können nicht verlangt werden.
Ein Organisationsfehler des Klägers folgt – jedenfalls nicht in dem hier konkret zu entscheidenden Fall – schließlich ebenfalls nicht aus Absatz 5.3.1 (e) des als Anlage FBD B 23a in der mündlichen Verhandlung zur Akte gereichten C-Consortium Agreement. Selbst wenn das Klagepatent nur rein vom Wortlaut unter die dort genannten Begriffe „Know-How“ bzw. „Knowledge“ fallen würde, liegt der Kern der klagepatentgemäßen Erfindung nicht im originären Anwendungsbereich bzw. Fokus des Projektes.

e)
Es kann dahinstehen, ob der Kläger frühestens durch die Emailkorrespondenz vom 4.-6.10.2010 Kenntnis von den anspruchsbegründenden Umständen und von der Person des Schuldner hatte und die dreijährige Verjährungsfrist mit Ablauf des Jahre 2010 oder erst später begann, §§ 199 Abs. 1, 195 BGB.
Diese oder auch eine später beginnende Verjährungsfrist ist noch nicht abgelaufen, weil mit der Einreichung der Klage die Hemmung der Verjährung eingetreten ist, § 204 Abs. 1 Nr. 1 BGB. Die Klage wird durch Zustellung der Klageschrift erhoben, wobei die Zustellung auf den Zeitpunkt der Klageeinreichung zurückwirkt, sofern sie demnächst erfolgt (§ 167 ZPO). Die Dauer der Verzögerung ist gleichgültig, wenn sie nicht vom Kläger, sondern vom Gericht zu vertreten ist (vgl. Palandt/Ellenberger, 74. Aufl., § 204 Rn. 6, 7). Der Kläger hat die Klage per Fax am 13.11.2013 eingereicht. Zugestellt wurde die Klage am 29.04.2014. Es ist nicht ersichtlich, dass der Kläger die Verzögerung zu vertreten hat. Die Verzögerungen im Rahmen der Übersetzung der Klageschrift halten sich auch in Anbetracht des dazwischenliegenden Jahreswechsels in einem üblichen Rahmen. Die Zustellung erfolgte daher demnächst und wirkt auf den 13.11.2013 als Zeitpunkt der Einreichung zurück.

3)
Auch die kenntnisunabhängige zehnjährige Verjährungsfrist gemäß § 199 Abs. 3 Nr. 1 BGB ist noch nicht abgelaufen. Der Kläger macht lediglich Ansprüche seit dem 13.11.2003 geltend. Mit Einreichung der Klage am 13.11.2013 ist die an diesem Tage ablaufende Verjährungsfrist gehemmt worden. Auf die obigen Ausführungen wird insoweit Bezug genommen.

VII.

Auch der Einwand der Verwirkung greift nicht.

Der Verwirkungseinwand wird gestützt auf den Grundsatz nach Treu und Glauben (§ BGB § 242 BGB). Ein Recht ist verwirkt, wenn sich ein Schuldner wegen der Untätigkeit seines Gläubigers über einen gewissen Zeitraum hin (Zeitmoment) bei objektiver Beurteilung darauf einrichten durfte und auch eingerichtet hat, dieser werde sein Recht nicht mehr geltend machen, und deswegen die verspätete Geltendmachung gegen Treu und Glauben verstößt (Umstandsmoment) (vgl. BGH, GRUR 2001, 323 – Temperaturwächter m.w.N.).

Neben Zweifeln am Umstandsmoment durch das Bekanntwerden des Thelma-Verfahrens gegenüber den Mitarbeitern der Beklagten fehlt es jedenfalls am Zeitmoment. Dies gilt für den Zeitraum ab 2003, da nach dem C-Projekt keine weiteren Berührungspunkte in Bezug auf das klagepatentgemäße Verfahren ersichtlich sind und erst recht ab 2006, in dem erstmals konkretere Informationen über die Prozessdaten zwischen einer Konzerngesellschaft der Beklagten und dem Kläger ausgetauscht wurden. Diese Zeiträume sind noch nicht derart lang, dass sich die Beklagte auf eine Nichtinanspruchnahme objektiv einrichten durfte.

VIII.
Eine Veranlassung, den Rechtsstreit im Hinblick auf das Nichtigkeitsverfahren gem. § 148 ZPO auszusetzen, besteht nicht. Für die Kammer lässt sich auf der Grundlage des vorgetragenen Sach- und Streitstands nicht die für eine Aussetzung erforderliche hinreichende Erfolgswahrscheinlichkeit der Nichtigkeitsklage feststellen (BGH, GRUR 2014, 1237 – Kurznachrichten).

1)
Der Einwand der unzulässigen Erweiterung ist im Hinblick auf die hinreichende Erfolgswahrscheinlichkeit nicht durchgreifend.
Die durch die Klagepatentanspruch 1, 3 und 4 geschützte Erfindung ist in den Anmeldungsunterlagen hinreichend deutlich offenbart. Das gilt auch für das Merkmal 5c), wonach die Prozesstemperatur im Bereich zwischen 600 und 1200° C eingestellt werden soll. Dieses Merkmal ist in den Anmeldungsunterlagen (Anlagenkonvolut FBD B 8, Anlage SP 8, S. 4, Abs. 2) offenbart.
Die von der Beklagten angegebenen Verweise in den Anmeldungsunterlagen auf Prozesstemperaturen im Bereich von 900 bis 1040° C entstammen durchweg bevorzugten Ausführungsformen des Verfahrens oder Ausführungsbeispielen der Erfindung. Darüber hinaus erfährt der Fachmann aber ganz allgemein, dass der Betrag der Schichtspannung durch die Wahl der Prozesstemperatur bestimmt werden kann. Eine Beschränkung auf bestimmte Temperaturbereiche enthalten die Anmeldeunterlagen insofern nicht. Es gibt auch keinen Anhaltspunkt dafür, dass ein Zusammenhang zwischen der Art der Schichtspannung und der Prozesstemperatur unterhalb von 900° C bzw. oberhalb von 1.040° C nicht mehr besteht. Dagegen spricht vielmehr die Darstellung in der Figur 2 der Anmeldeunterlagen sowie der Figur 1. Die Auffassung der Beklagten, dass der Fachmann diesen Figuren aufgrund einer etwaigen Umkehrung des Vorzeichens der Spannung eine Beschränkung auf den dargestellten Temperaturbereich entnehme, folgt die Kammer nicht. Im Übrigen handelt es sich um schematische Darstellungen, die eine präzise Aussage über den weiteren Verlauf der dargestellten Kurve nicht sicher zulässt. Vor dem Hintergrund wird der Fachmann die Textstelle auf S. 4 der Anmeldeunterlagen, in denen ein Temperaturbereich von 600 bis 1200° C angegeben ist, dahingehend verstehen, dass das Verfahren durchaus in dem angegebenen Bereich durchgeführt werden kann. Darauf weist bereits der einleitende Satz dieses Absatzes hin, dass sich das Verfahren ohne Umrüstung in bereits bekannten Reaktoren durchführen lasse. Der Fachmann wird den Hinweis auf den Temperaturbereich von 600 bis 1200° C daher nicht nur als allgemeine Darstellung der Eigenschaften herkömmlicher Reaktoren verstehen, sondern aufgrund des vorher Gesagten auch als Hinweis auf den Temperaturbereich, in dem das geschützte Verfahren durchgeführt werden kann.

2)
Was den Einwand der mangelnden Ausführbarkeit angeht, ist er in einer Auslegung begründet, die die Kammer nicht als zutreffend erachtet. Zudem sind verschiedene Ausführungsbeispiele angegeben, die die technische Lehre durchaus für den Fachmann als nacharbeitbar erscheinen lassen. Dass unter Umständen nicht alle Parameter angegeben sind, die im gesamten beanspruchten Bereich des Verfahrens Einfluss auf die Art und den Betrag der Schichtspannung haben können, ist unbeachtlich und im Rahmen entsprechender Versuche auflösbar. Im Übrigen stellt auch die Beklagte nicht in Abrede, dass Druck und Prozesstemperatur im genannten Anwendungsbereich einstellbar sind und sich damit reproduzierbare Ergebnisse erzielen lassen, also bei gleichem Druck und gleicher Temperatur nur marginale Abweichungen hinsichtlich Art und Betrag der Schichtspannung auftreten.

3)
Auch eine Vernichtung des Klagepatents wegen mangelnder Neuheit erscheint der Kammer nicht hinreichend wahrscheinlich.

a)
Die Schrift P (Anlagenkonvolut FBD B 8, Anlagen SP4, FBD B 9) offenbart die Merkmale 5a) bis d) nicht hinreichend. APCVD wird lediglich als eines von mehreren CVD-Verfahren zur Aufbringung von Polysiliziumschichten beschrieben, die allgemein aus der Polysilizium-Technik bekannt sind. Es wird aber nicht hinreichend deutlich offenbart, dass dieses Verfahren auch zur Herstellung mikromechanischer Bauelemente zum Einsatz kommen kann und Art und Betrag der Schichtspannung über Prozessdruck und Prozesstemperatur eingestellt werden können. Stattdessen verweist die Entgegenhaltung auf herkömmliche Verfahren wie in-situ-Dotierung oder Tempern, um Spannungen zu mildern. Auch die Erwähnung der Faktoren, die die mechanischen Eigenschaften der Siliziumschicht beeinflussen, ändert daran nichts.

b)
Auch bei der Entgegenhaltung Q (Anlagenkonvolut FBD B 8, Anlage SP 12) fehlt es jedenfalls an der hinreichend deutlichen Offenbarung des Merkmals 5a). Das Merkmal 5a) soll in einer Textstelle auf S. 172 offenbart sein, die aber lediglich Ergebnisse einer anderen Arbeit von Adamczewska u.a. zitiert. Diese beschäftigt sich hingegen lediglich mit Anwendungen auf dem Halbleitergebiet; zudem ist fraglich, ob überhaupt unter Atmosphärendruck gearbeitet wurde. In keinem Fall dürfte daraus der Schluss gezogen werden können, dass Q selbst die Anwendung von CVD für die Herstellung von MEMs bei Atmosphärendruck kundtut. Es gibt keine Anleitung zum technischen Handeln, den Prozessdruck oberhalb mehrerer hundert Pa so einzustellen, dass die Art der Spannung beeinflusst wird.
Ob darüber hinaus die Merkmale 5b) bis 5i) offenbart sind, kann dahinstehen. Zu berücksichtigen ist allerdings auch hier, dass die Entgegenhaltung zu einer Einstellbarkeit von Art und Betrag der Schichtspannung durch den Prozessdruck und die Prozesstemperatur nichts sagt. In der Offenbarung wird allein bei Drücken unterhalb mehrerer hundert PA gearbeitet. Dem Ansatz, allein dem oben genannten Zitat die Offenbarung zu entnehmen, die Art der Schichtspannung lasse sich durch den Prozessdruck jenseits der mehreren hundert Pa einstellen, vermag die Kammer nicht zu folgen.

c)
Auch die mit der Duplik eingeführte Schrift R et al. (Anlage FDB B 14) stellt keinen Angriff auf die Neuheit dar, der mit hinreichender Wahrscheinlichkeit erfolgversprechend ist. Dies schon deshalb nicht, weil es bis zum Schluss der mündlichen Verhandlung lediglich bei der Ankündigung, die Schrift auch im Nichtigkeitsverfahren einzuführen, geblieben ist. Unabhängig hiervon sieht die Kammer keine Offenbarung des Anspruchs 3. R et al. zeigt nicht, dass zur Erzeugung einer geringen Schichtspannung eine hohe Abscheidetemperatur gewählt wird.

4)
Ferner beruht das Klagepatent auch auf einer erfinderischen Tätigkeit.

a)
Für eine Kombination der Dissertation von Q (Anlage SP 9) mit dem allgemeinen Fachwissen bzw. mit der Schrift von P sieht die Kammer keinen Anlass. Sie ist mit dem Kläger der Auffassung, dass Q von höheren Prozessdrücken eher abrät, so dass für eine Durchführung des Verfahrens bei höheren Prozessdrücken kein Anlass bestand. Hinzu tritt, dass weder Q noch P Merkmal 5a) offenbaren.

b)
Mangels Offenbarung des Merkmals 5a) ist das Klagepatent auch erfinderisch gegenüber einer Kombination von P und Q (Anlagenkonvolut FBD B 8, Anlage SP 12).

IX.

Die Kostenentscheidung beruht auf §§ 91 Abs. 1, 269 Abs. 3 S. 2 ZPO.

Die Entscheidung zur vorläufigen Vollstreckbarkeit folgt aus § 709 ZPO. Vor dem Hintergrund der nur noch geringen Restlaufzeit des Klagepatents war die Sicherheitsleistung entsprechend herabzusetzen.

Der Streitwert wird auf € 1.000.000,00 festgesetzt.